梯度洗脫帶來的“鬼峰”來源很多，其中主要來源于流動相和管路，幾乎都有一個共同的機制：

　　當流動相具有較高的洗脫強度時，流動相中有紫外吸收的有機雜質在柱上聚焦成組分帶，并隨后在梯度中洗脫。這些流動相雜質的潛在“來源”是廣泛的(如有機相中污染物，水相中污染物，緩沖鹽類，流動相瓶和混合過程產生等)。其他原因包括流動相輸送的物理或機械方面、樣品引入和固定相效應。各種來源的鬼峰，讓鬼峰處理變得非常困難。

　　在色譜分離中，縱向擴散會增加分離組分帶寬。等度液相色譜中，盡量在縱向擴散超出接受范圍之前洗脫。在梯度洗脫色譜，因為流動相配比的變化導致動態(tài)壓縮組分帶的主動聚焦機制(帶/峰壓縮)。梯度色譜運行，是峰寬擴散和聚焦同步過程的產物。

　　聚焦機制可想象一個組分帶廣泛擴散在高效液相色譜柱的頂部。當施加溶劑梯度時，帶后部的有機溶劑濃度總是高于帶前部。帶前的組分分子比帶后的組分分子更強地被固定相保留，帶后的成分分子更快移動，導致落后的組分分子會被更強的洗脫液聚集，并更快地向前移動以趕上其余的。

　　帶聚焦機制可聚焦流動相中存在的有機雜質。在低洗脫劑濃度下有一定保留的雜質可能會隨著梯度逐漸聚集成峰。在充分聚焦后，流動相鬼峰與分析物峰形接近或相同，聚焦不*時，它們會變得更寬或變成其他形狀。理想梯度的液相色譜流動相到達梯度最大，該處應僅包含預期的溶劑和試劑，不包含其他物質。梯度高效液相色譜分析的不只是樣品，也分析流動相的雜質和儀器路徑的溶劑。為了區(qū)分真實的分析物峰和這些鬼峰，必須進行空白進樣的檢查（溶劑空白）。